スプレードライ法は最先端の瞬間乾燥処理法で、粒子をエンジニアリングし、1ステップで系統化します!
✓ 高い回収率 (>90%) 1 ml (10 mg) ~ 4 L まで対応
✓ 粒子サイズ 1-150µm
✓ PC 制御およびリアルタイムトレンドグラフ・Excelデータ出力
✓ 水・有機溶媒プロセスに対応
製剤プロセスエンジニアリング
製剤プロセスの能力
Excel対応コントロールシステム
モジュラー式の設置
形式 | フォーマトリクス OSK 43QD101 |
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品名 | 研究用噴霧乾燥機 |
必要供給電源 | 4600 W / 25 A |
必要供給電源 | 単相 230 V, 50~60 Hz (外付トランス対応) |
必要供給圧縮空気 | 乾燥・清浄空気 – 0.6Mpa @ 0.5 m³/min |
蒸発容量 | 0.1-15 ml/min 水の場合。 有機溶媒はさらに容量が大きくなる。 |
バッチサイズ | 10mg ~ 1,2 kg 乾燥試料 |
吸引ファン性能 | 最大 1 m³/分 |
入口温度 | 最高 190°C |
ヒータ容量 | 3600 W |
可能粒子直径範囲 | 1µm – 150µm (ノズル・製品構成に依る) |
噴射方式 | 2流体ノズル |
制御システム | 埋込型PC 15”フルカラータッチパネル |
インターフェイス | USB メモリ Excel処理データ報告 |