流動層乾燥機  OSK 43QD151

  • 流動層乾燥機  OSK 43QD151

流動層乾燥機  OSK 43QD151

<特長>

スプレードライ法は最先端の瞬間乾燥処理法で、粒子をエンジニアリングし、1ステップで系統化します!
✓ 高い回収率 (>90%) 1 ml (10 mg) ~ 4 L まで対応
✓ 粒子サイズ 1-150µm
✓ PC 制御およびリアルタイムトレンドグラフ・Excelデータ出力
✓ 水・有機溶媒プロセスに対応

製剤プロセスエンジニアリング

  • 多数のノズルとその先端の選択搭載が可能でユニークな装置です。開発担当者は幅広い可能性が得られ、必要な粒子を設計することが 可能。
  • 標準の噴霧ノズルは、圧縮空気または 窒素を用いて液体の流れを粒状に分散します。 ノズルは組み立て済みチップセットと供給され、 オリフィスサイズは 0.15-1.2mmまで選択可能
  • 完全ジャケット式2流体ノズルも選択でき、液体媒体の加熱・冷却が行 る利点が得られます。このノズルは一般にスプレー凍結に使われ、 溶融ワックスやポリマーの懸濁液を冷却エアストリームにあて カプセル化した粒子を生成させます

製剤プロセスの能力

  • システムは微陰圧で作動し、強力な素材を処理する際により安全な装置です。
  • オプションのHEPAフィルターを内蔵させると、ファン部にて空気清浄化処理が確保され、排気からの粉塵除去も行います。
  • 「窒素による閉鎖ループ再循環」セットは、不活性処理が必要な場合に選択でき、酸素に影響がある素材を処理する場合 に適用でき、有機溶媒を再利用することで環境保護を考慮した処理が可能です。

Excel対応コントロールシステム

  • PC内蔵型15”フルカラータッチパネル
  • 内蔵データロガーがバッチ式レポートを 出力し、USBフラッシュメモリーに保存できます。
  • EXCELによる バッチレポート

モジュラー式の設置

  • 本スプレードライヤーの処 理モジュールは、既存研究 室の壁やラックに取り付け 可能です。
  • スプレードライヤーの 処理モジュールと制御 システム・ファンボックス は、台車上に配置可能。
  • スプレードライヤ ーの台車を閉鎖ヒューム フード内に設置し、制御部 を外に置く事ができます。
形式 フォーマトリクス OSK 43QD101
品名 研究用噴霧乾燥機
必要供給電源 4600 W / 25 A
必要供給電源 単相 230 V, 50~60 Hz (外付トランス対応)
必要供給圧縮空気 乾燥・清浄空気 – 0.6Mpa @ 0.5 m³/min
蒸発容量 0.1-15 ml/min 水の場合。 有機溶媒はさらに容量が大きくなる。
バッチサイズ 10mg ~ 1,2 kg 乾燥試料
吸引ファン性能 最大 1 m³/分
入口温度 最高 190°C
ヒータ容量 3600 W
可能粒子直径範囲 1µm – 150µm (ノズル・製品構成に依る)
噴射方式 2流体ノズル
制御システム 埋込型PC 15”フルカラータッチパネル
インターフェイス USB メモリ Excel処理データ報告
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